[发明专利]一种双向瞬态电压抑制器件在审

专利信息
申请号: 201510915075.7 申请日: 2015-12-10
公开(公告)号: CN105374815A 公开(公告)日: 2016-03-02
发明(设计)人: 汪洋;董鹏;金湘亮;周子杰 申请(专利权)人: 湖南静芯微电子技术有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/06;H01L29/74
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 410100 湖南省长沙市长沙经济技术*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种基于硅平面工艺、NPNPN型高维持电压、高峰值电流、可双向箝位瞬态过压的双向瞬态电压抑制器件,包括P型衬底,P型衬底上设有N型深阱;所述N型深阱内设有第一P阱、第一N阱、第二P阱;第一P阱内从左到右依次设有第一P+注入区、第一N+注入区、第二N阱、第二N+注入区,第二N+注入区横跨第一P阱和第一N阱;第二P阱内从左到右依次设有第三N+注入区、第三N阱、第四N+注入区、第五P+注入区,第三N+注入区横跨第二P阱和第一N阱;所述第一P+注入区与第一N+注入区连接阳极;所述第四N+注入区和第二P+注入区连接到阴极。该器件可用于信号电平为-5V-+5V芯片引脚的瞬态过压抑制。
搜索关键词: 一种 双向 瞬态 电压 抑制 器件
【主权项】:
一种双向瞬态电压抑制器件,包括P型衬底,其特征在于:所述P型衬底内设有N型深阱,所述N型深阱内设有对称的第一P阱和第二P阱,第一P阱和第二P阱之间设有第一N阱;第一P阱内从左到右依次设有第一P+注入区、第一N+注入区、第二N阱、第二N+注入区,第二N+注入区横跨第一P阱和第一N阱的交界处;第二P阱内从左到右依次设有第三N+注入区、第三N阱、第四N+注入区、第五P+注入区,第三N+注入区横跨第二P阱和第一N阱的交界处;所述第一P+注入区与第一N+注入区连接阳极,第四N+注入区和第二P+注入区连接阴极。
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