[发明专利]一种高效的氢还原制备过渡金属氧化物缺陷的方法有效
| 申请号： | 201510916875.0 | 申请日： | 2015-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN106861681B | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 徐颖峰;张玲霞;施剑林;魏晨阳 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
| 主分类号： | B01J23/44 | 分类号： | B01J23/44;B01J23/63;B01J23/652 |
| 代理公司： | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲;郑优丽 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高效的氢还原制备过渡金属氧化物缺陷的方法，包括：通过贵金属负载得到负载贵金属的过渡金属氧化物，将得到负载贵金属的过渡金属氧化物在还原性气氛下进行还原反应，得到所述含有缺陷的过渡金属氧化物。本发明将贵金属于过渡金属氧化物负载，可以很大程度上降低分子态氢变成原子态氢的反应势垒，之后就可以实现在常温常压的条件下用普通的氢氩气氛实现氢还原制备大量缺陷（包括所述过渡金属的低价还原态以及氧空位）的过渡金属氧化物材料，而且其缺陷能长期稳定的存在。本发明的方法简单易行，巧妙新颖，成本低，效率高，制备缺陷过渡金属氧化物具有较强的催化稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 过渡金属氧化物 氢还原 制备过渡金属 负载贵金属 氧化物缺陷 制备 催化稳定性 贵金属负载 还原性气氛 贵金属 常温常压 长期稳定 分子态氢 过渡金属 还原反应 原子态氢 还原态 氧空位 势垒 | ||
【主权项】：
1.一种含有缺陷的过渡金属氧化物的制备方法，其特征在于，所述缺陷包括所述过渡金属的低价还原态以及氧空位，所述制备方法包括：（A）通过贵金属负载得到负载贵金属的过渡金属氧化物，所述过渡金属氧化物包括氧化钛、氧化铈、氧化钨、以及氧化钽，所述贵金属为铂、钯、铑、金中的至少一种，以所述过渡金属氧化物的质量为100wt%计，所述贵金属的负载量为0.01～10wt%；（B）所述负载贵金属的过渡金属氧化物在还原性气氛中、0～100℃下进行还原反应1～400 分钟，得到所述含有缺陷的过渡金属氧化物，所述的还原性气氛由还原性气体和惰性气体组成，所述还原性气体为H2、CO、H2S和NH3中的至少一种。
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