[发明专利]曝光机及光罩洁净设备在审

专利信息
申请号: 201510929155.8 申请日: 2015-12-14
公开(公告)号: CN105467777A 公开(公告)日: 2016-04-06
发明(设计)人: 王轩 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F1/82
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 袁江龙
地址: 518006 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种曝光机及光罩洁净设备,该光罩洁净设备设置在曝光机内,用于对曝光机内的光罩进行清洁,该光罩洁净设备包括箱体、移动台、离子气枪以及紫外线灯管,其中,箱体设有快门;移动台设于箱体内,用于从快门处接收光罩并在箱体内移动;离子气枪设于箱体内,用于吹出离子风以清除光罩上的杂尘;紫外线灯管设于箱体内,用于发出紫外线以分解光罩上的有机物。本发明提供的曝光机及其光罩洁净设备使得光罩可以在曝光机内部进行清洁,不用拿出曝光机之外进行清洁,大大提高了工作效率和产能。
搜索关键词: 曝光 洁净 设备
【主权项】:
一种光罩洁净设备,其特征在于,所述光罩洁净设备设置在曝光机内,用于对曝光机内的光罩进行清洁,所述光罩洁净设备包括:箱体,设有快门;移动台,设于所述箱体内,用于从所述快门处接收光罩并在所述箱体内移动;离子气枪,设于所述箱体内,用于吹出离子风以清除所述光罩上的杂尘;紫外线灯管,设于所述箱体内,用于发出紫外线以分解所述光罩上的有机物。
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