[发明专利]用于后处理系统的混合系统

摘要

公开一种用于后处理系统的混合系统。混合系统包括混合管。混合管设置为与排气导管流体连通。混合系统还包括定位在混合管上的喷射位置处的还原剂喷射器。混合系统还包括定位在喷射位置下游的混合器组件。混合器组件包括以连续布置方式设置的多个混合元件，使得多个混合元件中的每个设置在彼此的下游。

主权项

1.一种用于后处理系统的混合系统，所述混合系统包括：与排气导管流体连通的混合管；定位在所述混合管上的喷射位置处的还原剂喷射器；和定位在所述喷射位置下游的混合器组件，所述混合器组件包括以连续布置方式设置的多个混合元件；所述多个混合元件还包括第一混合元件，所述第一混合元件包括具有多个架子的排架，所述多个架子在所述混合管内水平地布置且彼此平行，所述多个架子位于经过所述混合管的排气流和还原剂的流动路径内的多个不同的架子位置处，使得所述多个架子中的第一个架子位于所述多个架子中的第二个架子的上游；所述多个混合元件还包括第二混合元件，所述第二混合元件位于在所述第一混合元件的下游的第二位置处，以混合从所述第一混合元件接收的排气流和还原剂；并且其中，所述第一混合元件是包括两个侧壁的流动会聚和冲击混合器，所述两个侧壁中的每个包括设置在其上的多个突片，所述第二混合元件是挡叶混合器或旋涡式混合器。