[发明专利]一种高灵敏度霍尔元件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510941653.4 申请日: 2015-12-16
公开(公告)号: CN105576119A 公开(公告)日: 2016-05-11
发明(设计)人: 胡双元;帕勒布.巴特查亚;朱忻 申请(专利权)人: 苏州矩阵光电有限公司
主分类号: H01L43/06 分类号: H01L43/06;H01L43/04;H01L43/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215614 江苏省苏州市张家*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明所述的一种高灵敏度霍尔元件,包括层叠设置的半绝缘GaAs衬底、GaAs功能层、欧姆接触层、金属电极和钝化层;GaAs功能层为掺杂浓度很低的N型掺杂;欧姆接触层为高掺杂浓度的N型掺杂AlGaAs或InGaAs等。所述的一种高灵敏度霍尔元件的制备方法,包括以下步骤:S1、在半绝缘GaAs衬底上依次外延生长GaAs功能层和欧姆接触层;S2、对欧姆接触层和GaAs功能层进行图案化,形成台面;S3、在欧姆接触层表面蒸镀金属电极;S4、选择性腐蚀去除GaAs功能层表面的欧姆接触层;S5、在霍尔元件表面制备一层钝化层。根据本发明制备的霍尔元件,GaAs功能层的掺杂浓度可以非常低,因此拥有非常高的电子迁移率,器件的灵敏度非常高,而传统的低掺杂GaAs不容易形成良好欧姆接触的问题,则由表面的欧姆接触层完美解决,从而能够得到高灵敏度的霍尔元件。
搜索关键词: 一种 灵敏度 霍尔 元件 及其 制备 方法
【主权项】:
一种高灵敏度霍尔元件,包括层叠设置的半绝缘GaAs衬底、GaAs功能层、欧姆接触层、金属电极和钝化层;金属电极直接和欧姆接触层接触,钝化层覆盖在整个器件表面。
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