[发明专利]一种蒸镀设备的定位装置

摘要

本发明公开了一种蒸镀设备的定位装置。该装置包括：旋转马达、传感器挡片、初始位置传感器和定位传感器；旋转马达用于将基片和掩膜板旋转到指定位置，且旋转马达为环形结构；传感器挡片位于旋转马达上，用于引导初始位置传感器或定位传感器对旋转马达的旋转位置进行定位；初始位置传感器独立于旋转马达，用于根据传感器挡片的运动位置使旋转马达旋转到初始位置；定位传感器独立于旋转马达，用于根据传感器挡片的运动位置对旋转马达的旋转位置进行定位，使旋转马达旋转到指定位置。应用本发明提供的蒸镀设备中的定位装置，能够在机械手取基片之前，使得基片精确定位，降低了机械手在取基片时与基片发生碰撞的几率。

主权项

1.一种蒸镀设备的定位装置，其特征在于，所述装置包括：旋转马达、旋转马达传感器挡片、旋转马达初始位置传感器和旋转马达定位传感器；其中，所述旋转马达，用于将基片和掩膜板旋转到指定位置，且所述旋转马达为环形结构；所述旋转马达传感器挡片位于所述旋转马达上，用于引导所述旋转马达初始位置传感器或所述旋转马达定位传感器对所述旋转马达的旋转位置进行定位；所述旋转马达初始位置传感器独立于所述旋转马达，用于根据所述旋转马达传感器挡片的运动位置使所述旋转马达旋转到初始位置；所述旋转马达定位传感器独立于所述旋转马达，用于根据所述旋转马达传感器挡片的运动位置对所述旋转马达的旋转位置进行定位，使所述旋转马达旋转到指定位置；所述装置还包括基础轴，所述基础轴位于所述环形旋转马达的内环中，所述基础轴是由基础竖直轴、基础轴传感器挡片、基础轴上极限传感器、基础轴初始位置传感器、基础轴基片定位传感器、基础轴掩膜板定位传感器和基础轴下极限传感器构成；其中，所述基础竖直轴，用于带动基片向上或向下运动到指定的位置；所述基础轴传感器挡片位于所述基础竖直轴上，用于引导所述基础轴初始位置传感器或所述基础轴基片定位传感器或基础轴掩膜板定位传感器对基片进行向上或向下定位；所述基础轴上极限传感器独立于所述基础竖直轴，用于根据所述基础轴传感器挡片的运动位置限制基片向上运动的最大距离；所述基础轴初始位置传感器独立于所述基础竖直轴，用于根据所述基础轴传感器挡片的运动位置使基片向上或向下运动到初始位置；所述基础轴基片定位传感器独立于所述基础竖直轴，用于根据所述基础轴传感器挡片的运动位置使基片向上或向下运动到指定位置，当基片运动到所述指定位置时，所述蒸镀设备中的机械手取得基片；所述基础轴掩膜板定位传感器独立于所述基础竖直轴，用于根据所述基础轴传感器挡片的运动位置使基片向上或向下运动到指定位置，当基片运动到所述指定位置时，所述蒸镀设备中的机械手取得掩膜板；所述基础轴下极限传感器独立于所述基础竖直轴，用于根据所述基础轴传感器挡片的运动位置限制基片向下运动的最大距离。