[发明专利]化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液的制造方法有效
| 申请号： | 201510952485.9 | 申请日： | 2014-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN105566062B | 公开（公告）日： | 2019-06-04 |
| 发明（设计）人： | 山中司;川本崇司;井口直也 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | C07C29/76 | 分类号： | C07C29/76;C07C45/78;C07C67/48;G03F7/32;G03F7/038;G03F7/039 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨文娟;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种尤其在使用有机系显影液形成微细化(例如，30nm节点以下)图案的负型图案形成技术中，可减少粒子的产生的化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液及其制造方法、及其应用，化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液的制造方法包括使含有有机溶剂的液体在具有液体入口部、液体出口部、及设置在将液体入口部与液体出口部加以连接的流路内的过滤膜的过滤装置中通过的步骤，且液体入口部处的液体的温度(TI)与液体出口部处的液体的温度(To)的差的绝对值(|TI‑To|)为3℃以下，过滤装置中的液体的过滤速度为0.5L/min/m2以上，过滤装置中的液体的过滤压力为0.1MPa以下。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 增幅 型抗蚀剂膜 图案 化用 有机 处理 及其 制造 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液的制造方法，其包括使含有有机溶剂的液体在具有液体入口部、液体出口部、及设置在将所述液体入口部与所述液体出口部加以连接的流路内的过滤膜的过滤装置中通过的步骤，且所述液体入口部处的所述液体的温度TI与所述液体出口部处的所述液体的温度To的差的绝对值|TI‑To|为3℃以下，所述过滤装置中的所述液体的过滤速度为0.5L/min/m2以上，所述过滤装置中的所述液体的过滤压力为0.10MPa以下，所述液体入口部处的所述液体的温度TI为20℃以上且30℃以下。
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