[发明专利]防尘薄膜组件有效
| 申请号： | 201510958619.8 | 申请日： | 2015-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN105739234B | 公开（公告）日： | 2019-11-29 |
| 发明（设计）人： | 关原一敏 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/62 | 分类号： | G03F1/62;G03F1/64 |
| 代理公司： | 11280 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王勇;王博<国际申请>=<国际公布>=< |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种给予贴附后的光掩模的形状的影响极小，可大幅度抑制光掩模的变形的防尘薄膜组件。本发明为，由长边和短边形成的矩形的防尘薄膜组件框架11构成的防尘薄膜组件10，在其防尘薄膜组件框架11上掩模粘着层12至少在2处上形成的同时，其掩模粘着层12之间的领域中无间隙地形成非粘着性的树脂形成的弹性体层13。然后，本发明的掩模粘着层12在包括角部的防尘薄膜组件框架11上的部位形成为优选，也可进在防尘薄膜组件框架的直线部形成。再者，该掩模粘着层，其沿着防尘薄膜组件框架内侧的长度的总和为防尘薄膜组件框架11的内周长的10％至70％的范围为优选。 | ||
| 搜索关键词： | 防尘 薄膜 组件 | ||
【主权项】：
1.一种防尘薄膜组件，由长边和短边形成的矩形的防尘薄膜组件框架构成，其特征在于，在所述防尘薄膜组件框架上掩模粘着层至少在2处形成的同时，各掩模粘着层之间的领域无间隙地形成由非粘着性的树脂构成的弹性体层。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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