[发明专利]一种用于化学铜设备的排水装置在审
申请号: | 201510960154.X | 申请日: | 2015-12-21 |
公开(公告)号: | CN105369228A | 公开(公告)日: | 2016-03-02 |
发明(设计)人: | 黄品椿 | 申请(专利权)人: | 苏州创峰光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C18/38 | 分类号: | C23C18/38 |
代理公司: | 北京华夏博通专利事务所(普通合伙) 11264 | 代理人: | 刘俊 |
地址: | 215000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种用于化学铜设备的排水装置,其安装于化学铜设备的排水处,该排水装置包括调节机构、迫紧机构和底座,所述迫紧机构位于药水槽内,所述调节机构与所述迫紧机构连接,并调节迫紧机构间歇性与所述底座形成开或闭的状态,所述底座的内部为中通的结构,并通过一段封闭管路与排水球阀连接,所述封闭管路连通外部管路,所述外部管路用于向所述封闭管路内注入纯水。本发明通过调节机构调节使迫紧机构与底座之间压迫锁紧,从而使槽内药水与排水球阀之间形成一个封闭管路,所述封闭管路连通外部管路,通过向外部管路向封闭管路中注入纯水而形成水密封,进而保证排水球阀无药水接触,避免排水球阀结铜卡死。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 化学 设备 排水 装置 | ||
【主权项】:
一种用于化学铜设备的排水装置,其安装于化学铜设备的排水处,其特征在于,该排水装置包括调节机构、迫紧机构和底座,所述迫紧机构位于药水槽内,所述调节机构与所述迫紧机构连接,并调节迫紧机构间歇性与所述底座形成开或闭的状态,所述底座的内部为中通的结构,并通过一段封闭管路与排水球阀连接,所述封闭管路连通外部管路,所述外部管路用于向所述封闭管路内注入纯水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州创峰光电科技有限公司,未经苏州创峰光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510960154.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种棕色钝化剂
- 下一篇:功能增强型的八角治具
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理