[发明专利]CVD涂层切削工具有效
申请号: | 201510964707.9 | 申请日: | 2015-12-21 |
公开(公告)号: | CN105714268B | 公开(公告)日: | 2019-12-10 |
发明(设计)人: | 埃里克·林达尔;扬·恩奎斯特 | 申请(专利权)人: | 山特维克知识产权股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;C23C30/00;C23C16/36;C23C16/34;C23C16/30;C23C16/02 |
代理公司: | 11219 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 王潜;郭国清 |
地址: | 瑞典桑*** | 国省代码: | 瑞典;SE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种CVD涂层切削工具。特别地,本发明涉及一种用于金属的切屑形成机械加工的涂层切削工具,所述涂层切削工具包含具有涂覆有化学气相沉积(CVD)涂层的表面的基底。所述涂层切削工具包含涂覆有涂层的基底,所述涂层包含α‑Al | ||
搜索关键词: | cvd 涂层 切削 工具 | ||
【主权项】:
1.一种涂层切削工具,所述涂层切削工具包含涂覆有涂层的基底,所述涂层包含α-Al
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的