[发明专利]评价植物根系对污染物垂直方向生长回避的装置及方法在审
申请号: | 201510966992.8 | 申请日: | 2015-12-21 |
公开(公告)号: | CN105403569A | 公开(公告)日: | 2016-03-16 |
发明(设计)人: | 李莹;周垂帆;殷丹阳;吴鹏飞;马祥庆 | 申请(专利权)人: | 福建农林大学 |
主分类号: | G01N21/84 | 分类号: | G01N21/84 |
代理公司: | 福州市鼓楼区博深专利代理事务所(普通合伙) 35214 | 代理人: | 林志峥 |
地址: | 350000 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明涉及一种评价植物根系对污染物垂直生长回避的装置,包括壳体、分隔件、导轨、扫描设备和驱动件,所述壳体包括基底和设置于基底上的侧壁,所述基底和侧壁使壳体形成具有开口的容腔,所述分隔件设置于壳体内且数目为两个以上,所述分隔件上设有通孔,所述通孔中设有琼脂层,两个以上的所述分隔件分别沿基底至开口方向设置在侧壁上并将所述容腔分隔形成两个以上密闭的子容腔,所述导轨沿侧壁四周方向设置于壳体外,所述扫描设备可滑动的设置于导轨上,所述驱动件驱动扫描设备沿导轨滑动。本发明还涉及一种评价植物根系对污染物垂直生长回避的方法。本发明的上述评价装置和评价方法同时具有显著提高试验重现性和监测的灵敏度的优点。 | ||
搜索关键词: | 评价 植物 根系 污染物 垂直 方向 生长 回避 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种评价植物根系对污染物垂直生长回避的装置,其特征在于,包括壳体、分隔件、导轨、扫描设备和驱动件,所述壳体包括基底和设置于基底上的侧壁,所述基底和侧壁使壳体形成具有开口的容腔,所述分隔件设置于壳体内且数目为两个以上,所述分隔件上设有通孔,所述通孔中设有琼脂层,两个以上的所述分隔件分别沿基底至开口方向设置在侧壁上并将所述容腔分隔形成两个以上密闭的子容腔,所述导轨沿侧壁四周方向设置于壳体外,所述扫描设备可滑动的设置于导轨上,所述驱动件驱动扫描设备沿导轨滑动。
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