[发明专利]PZT-ZnO薄膜在审
申请号: | 201510970261.0 | 申请日: | 2015-12-22 |
公开(公告)号: | CN106910818A | 公开(公告)日: | 2017-06-30 |
发明(设计)人: | 曹大旭 | 申请(专利权)人: | 青岛城轨交通装备科技有限公司 |
主分类号: | H01L41/02 | 分类号: | H01L41/02;H01L49/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 266000 山东省青岛市城*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明属于复合材料领域的一种PZT-ZnO薄膜,具体实施方式;基底上先利用射频磁控溅射法制备ZnO薄膜,然后在掺杂ZnO薄膜上制备PZT薄膜,低温烧结后得到CNT-ZnO透明导电复合薄膜。该薄膜膜结构均匀致密,导电性能良好。 | ||
搜索关键词: | pzt zno 薄膜 | ||
【主权项】:
一种PZT‑ZnO薄膜,其特征在于,基底上先利用射频磁控溅射法制备ZnO薄膜,然后在掺杂ZnO薄膜上制备PZT薄膜,低温烧结后得到CNT‑ZnO透明导电复合薄膜,具体包括以下步骤:步骤1:将基底依次用洗洁精水溶液、碱水溶液、酸溶液、无水乙醇和去离子水清洗干净;步骤2:将无水醋酸锌、六水氯化铝、乙醇胺和乙二醇甲醚在60℃搅拌混合均匀后再在室温下陈化12h得到溶胶A;步骤3:醋酸铅、硝酸氧锆以及钛酸丁酯在60℃搅拌混合均匀后得到溶胶B;步骤4:将步骤2得到的溶胶A采用射频磁控溅射步骤1清洗得到的基底上6h得到薄膜,再将薄膜进行热处理,热处理温度为600℃,保温时间15min,然后自然冷却得到掺杂ZnO薄膜;步骤5:将步骤3得到的溶液B涂布到步骤4得到的掺杂ZnO薄膜上得到薄膜,再将薄膜进行热处理,空热处理温度为600℃,保温时间15min,得到掺杂PZT‑ZnO薄膜。
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