[发明专利]适用于纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺在审
| 申请号： | 201510978022.X | 申请日： | 2015-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN105385982A | 公开（公告）日： | 2016-03-09 |
| 发明（设计）人： | 郭军 | 申请（专利权）人： | 德阳瑞泰科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C8/58 | 分类号： | C23C8/58 |
| 代理公司： | 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 | 代理人： | 邹翠 |
| 地址： | 618500 四川省德阳*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种适用于纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺。工艺步骤如下：1）清洗，在水基清洗剂的作用下，超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落；2）预热，在350-400℃的温度下，在空气炉中对工件加热10-20min；3）盐浴氮化，温度420-460℃，时间120-150min，氮化盐按质量计，配方组成为：尿素30-50%、Na2CO3 4-8%、K2CO3 6-10%、Li2CO3 5-10%、KCNO 12-25%、NaCNO 8-15%、NaCl 5-8%、Na2S 4-8%、K2S 6-10%、LiOH 2-5%；4）盐浴氧化，温度400-420℃，时间15~20min；5）冷却，在空气下冷却，机械抛光；6）再氧化，温度400-420℃，时间5~10min，浸油。 | ||
| 搜索关键词： | 适用于 水压 元件 qpq 处理 工艺 | ||
【主权项】：
适用于纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺，其特征在于：工艺步骤如下：1）清洗在水基清洗剂的作用下，超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落；2）预热在350‑400℃的温度下，在空气炉中对工件加热10‑20min；3）盐浴氮化温度420‑460℃，时间120~150min;所述的氮化盐按质量计，配方组成为：尿素30‑50%、Na2CO3 4‑8%、K2CO3 6‑10%、Li2CO3 5‑10%、KCNO 12‑25%、NaCNO 8‑15%、NaCl 5‑8%、Na2S 4‑8%、K2S 6‑10%、LiOH 2‑5%；4）盐浴氧化温度400‑420℃，时间15~20min；5）冷却在空气下冷却，机械抛光；6）再氧化温度400‑420℃，时间5~10min，浸油。
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