[发明专利]用于磁性粉体颗粒表面真空镀膜的装置及镀膜方法在审
| 申请号： | 201510978378.3 | 申请日： | 2015-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN105543781A | 公开（公告）日： | 2016-05-04 |
| 发明（设计）人： | 班云霄;杨慧君 | 申请（专利权）人： | 兰州交通大学 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 730070 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本发明旨在提供一种对磁性粉体颗粒进行真空镀膜的装置及镀膜方法。发明利用磁性粉体颗粒对交变磁场的响应，使之在真空室内进行升空（堆砌）、跌落、翻转（旋转）等状态的变化，从而可以使得磁性粉体颗粒在真空环境中进行均匀真空镀膜。发明利用奥氏体不锈钢制作真空室，采用继电器控制交变磁场的变化，以达到获得对磁性粉体颗粒进行均匀、致密镀膜的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 磁性 颗粒 表面 真空镀膜 装置 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
一种用于磁性粉体表面真空镀膜的装置和方法，其特征在于：该装置包括真空室，励磁线圈或旋转磁场线圈，耐高温异形坩埚，磁控溅射靶架、溅射电源、蒸镀电源、样品台（可升降）、支撑辊、继电器、交流电源,其中，励磁线圈可以位于真空室外装置的顶端（如图1），也可位于真空室内的样品台的（如图2）四周，此时基盘为杯状。
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