[发明专利]一种清晰显示镍基合金奥氏体晶界的金相腐蚀方法在审
| 申请号： | 201510980066.6 | 申请日： | 2015-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN106908301A | 公开（公告）日： | 2017-06-30 |
| 发明（设计）人： | 孙林根;梅林波;安春香;夏健;刘鹏 | 申请（专利权）人： | 上海电气电站设备有限公司 |
| 主分类号： | G01N1/32 | 分类号： | G01N1/32;C22C19/03;C23F1/28 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所31219 | 代理人： | 严晨,许亦琳 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及金相样品制备领域，特别是涉及一种清晰显示镍基合金奥氏体晶界的金相腐蚀方法。本发明提供一种清晰显示镍基合金奥氏体晶界的金相腐蚀方法，包括如下步骤a）研磨；b）抛光；c）腐蚀；d）清洁。本发明所提供的一种清晰显示镍基合金奥氏体晶界的金相腐蚀方法，在光学显微镜下即可观察到清晰的奥氏体晶界，不仅能够更好地显示镍基合金奥氏体晶粒，且实施简单、易于实行。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清晰 显示 合金 奥氏体 金相 腐蚀 方法 | ||
【主权项】：
一种清晰显示镍基合金奥氏体晶界的金相腐蚀方法，包括如下步骤：a)研磨：将切割好的金相试样的待腐蚀面进行研磨处理，所述金相试样为镍基合金；b)抛光：将步骤a所得试样的待腐蚀面清洗、抛光；c)腐蚀：将步骤b所得试样的待腐蚀面放入腐蚀液中腐蚀，所述腐蚀液包括过氧化氢、盐酸和甲醇；d)清洁：将步骤c所得试样清洗、干燥，并观察试样的奥氏体晶界。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海电气电站设备有限公司，未经上海电气电站设备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510980066.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
