[发明专利]碱性铜粗抛液提高GLSI多层铜布线铜膜粗抛一致性的应用在审
| 申请号： | 201510990523.X | 申请日： | 2015-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN105598826A | 公开（公告）日： | 2016-05-25 |
| 发明（设计）人： | 刘玉岭;王月霞;牛新环 | 申请（专利权）人： | 天津晶岭微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;C09G1/02 |
| 代理公司： | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人： | 杨红 |
| 地址： | 300130 天津市滨海新*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种碱性铜粗抛液提高GLSI多层铜布线铜膜粗抛一致性的应用，主要由SiO2水溶胶磨料、FA/OⅠ型非离子表面活性剂、FA/OⅡ型螯合剂和双氧水组成碱性铜粗抛液，其特征是：所述碱性铜粗抛液的FA/OⅠ型表面活性剂在GLSI多层铜布线CMP铜膜的高速率下提高粗抛高一致性的应用。有益效果：本发明选用FA/OⅠ型表面活性剂可使抛光表面吸附物处理易清洗的物理吸附状态，有利于表面沾污物的去除，同时减少损伤层，降低表面张力，提高晶片表面质量的均匀性，加快表面质量传递，提高温度分布一致性，达到铜膜表面全局一致性。 | ||
| 搜索关键词： | 碱性 铜粗抛液 提高 glsi 多层 布线 铜膜粗抛 一致性 应用 | ||
【主权项】：
一种碱性铜粗抛液提高GLSI多层铜布线铜膜粗抛一致性的应用，主要由SiO2水溶胶磨料、FA/OⅠ型表面活性剂、FA/OⅡ型螯合剂和双氧水组成碱性铜粗抛液，其特征是：所述碱性铜粗抛液的FA/OⅠ型表面活性剂在GLSI多层铜布线CMP铜膜的高速率下提高粗抛高一致性的应用。
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