[发明专利]抗反射膜以及包括该抗反射膜的有机发光装置有效

专利信息
申请号: 201510994156.0 申请日: 2015-12-25
公开(公告)号: CN105742319B 公开(公告)日: 2019-10-25
发明(设计)人: 大山毅;镰田晃;李殷成 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52;H01L51/50
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 弋桂芬
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供一种抗反射膜以及包括该抗反射膜的有机发光装置。该抗反射膜包括偏振器、第一相位延迟层和第二相位延迟层,其中第一相位延迟层和第二相位延迟层中的至少一个包括液晶层,并且该液晶层包括在关于其表面非垂直地倾斜的方向上取向的液晶。
搜索关键词: 反射 以及 包括 有机 发光 装置
【主权项】:
1.一种用于防止外部光的反射的抗反射膜,包括:偏振器,限定所述抗反射膜的光入射侧并配置为将外部光转变为线偏振光;第一相位延迟层,所述第一相位延迟层是λ/2相位延迟层;和第二相位延迟层,所述第二相位延迟层是λ/4相位延迟层,其中所述第二相位延迟层包括具有第一表面以及与所述第一表面相反的第二表面的液晶层,并且其中所述液晶层包括在关于其表面非垂直地倾斜的方向上取向的液晶,所述第二相位延迟层的所述液晶层的所述液晶的倾斜角从所述第一表面到所述第二表面逐渐增大,其中所述第一相位延迟层和所述第二相位延迟层的组合用作圆偏振层,并且其中所述第一相位延迟层和所述第二相位延迟层的组合对于约450nm、约550nm和约650nm波长的平面内延迟满足以下不等式:Re0‑450nm≤Re0‑550nm≤Re0‑650nm,其中Re0‑450nm表示所述第一相位延迟层和所述第二相位延迟层的组合对于约450nm波长的入射光的平面内延迟,Re0‑550nm表示所述第一相位延迟层和所述第二相位延迟层的组合对于约550nm波长的入射光的平面内延迟,以及Re0‑650nm表示所述第一相位延迟层和所述第二相位延迟层的组合对于约650nm波长的入射光的平面内延迟。
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