[发明专利]抗反射膜以及包括该抗反射膜的有机发光装置有效
申请号: | 201510994156.0 | 申请日: | 2015-12-25 |
公开(公告)号: | CN105742319B | 公开(公告)日: | 2019-10-25 |
发明(设计)人: | 大山毅;镰田晃;李殷成 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/50 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 弋桂芬 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种抗反射膜以及包括该抗反射膜的有机发光装置。该抗反射膜包括偏振器、第一相位延迟层和第二相位延迟层,其中第一相位延迟层和第二相位延迟层中的至少一个包括液晶层,并且该液晶层包括在关于其表面非垂直地倾斜的方向上取向的液晶。 | ||
搜索关键词: | 反射 以及 包括 有机 发光 装置 | ||
【主权项】:
1.一种用于防止外部光的反射的抗反射膜,包括:偏振器,限定所述抗反射膜的光入射侧并配置为将外部光转变为线偏振光;第一相位延迟层,所述第一相位延迟层是λ/2相位延迟层;和第二相位延迟层,所述第二相位延迟层是λ/4相位延迟层,其中所述第二相位延迟层包括具有第一表面以及与所述第一表面相反的第二表面的液晶层,并且其中所述液晶层包括在关于其表面非垂直地倾斜的方向上取向的液晶,所述第二相位延迟层的所述液晶层的所述液晶的倾斜角从所述第一表面到所述第二表面逐渐增大,其中所述第一相位延迟层和所述第二相位延迟层的组合用作圆偏振层,并且其中所述第一相位延迟层和所述第二相位延迟层的组合对于约450nm、约550nm和约650nm波长的平面内延迟满足以下不等式:Re0‑450nm≤Re0‑550nm≤Re0‑650nm,其中Re0‑450nm表示所述第一相位延迟层和所述第二相位延迟层的组合对于约450nm波长的入射光的平面内延迟,Re0‑550nm表示所述第一相位延迟层和所述第二相位延迟层的组合对于约550nm波长的入射光的平面内延迟,以及Re0‑650nm表示所述第一相位延迟层和所述第二相位延迟层的组合对于约650nm波长的入射光的平面内延迟。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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