[发明专利]一种富含水的羟胺剥离清洗液有效
| 申请号： | 201510996527.9 | 申请日： | 2015-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN106919011B | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | 黄达辉;刘兵;彭洪修 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种富含水的羟胺剥离清洗液，其包含(a)羟胺(b)有机溶剂(c)水(d)烷基苯酚以及(e)芳基有机酸。该清洗液不含醇胺，可用以去除半导体晶片表面的光致抗剂、蚀刻后和灰化后的残留物以及来自Al后端工艺互连结构的残留物和污染物。这种低蚀刻性的清洗液能够快速的去除半导体光致抗剂、蚀刻后和灰化后的残留物，同时对金属铝等基材具有非常低的蚀刻速率，还具有很好的稳定性。本发明的清洗液在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 含水 剥离 清洗 | ||
【主权项】：
一种富含水的羟胺剥离清洗液，其特征在于，所述清洗液包含羟胺、有机溶剂、烷基苯酚、芳基有机酸以及水。
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