[发明专利]一种用于厚膜光刻胶的高容量显影液组合物在审
| 申请号： | 201510996583.2 | 申请日： | 2015-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN105589303A | 公开（公告）日： | 2016-05-18 |
| 发明（设计）人： | 马丽丽;黄巍;顾奇 | 申请（专利权）人： | 苏州瑞红电子化学品有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种厚膜光刻胶显影液组合物，该组合物含有组分及重量百分含量为：KOH或者Na2SiO3 1％～10％，显影缓冲剂偏硼酸钾1％～4％，显影加速剂DGME 0.1％～2％，炔二醇表面活性剂SF-440 0.01％～0.05％醚改性硅氧烷消泡剂DF-62 0.005％～1％，本发明提供的显影液组合物，主要用于IC封装工艺中厚膜正性光刻胶的显影，主要是MEMS、厚膜电镀及封装工艺中的大规模显影过程，尤其特别适用于对显影液劣化有严格要求的连续喷淋作业场合，具有显影速度快、显影容量高等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光刻 容量 显影液 组合 | ||
【主权项】：
一种厚膜光刻胶显影液组合物，其特征在于该组合物同时含有KOH或者Na2SiO3 1％～10％，显影缓冲剂偏硼酸钾1％～4％，显影加速剂0.1％～2％，炔二醇表面活性剂SF‑440 0.01％～0.05％，醚改性硅氧烷消泡剂0.005％～1％。
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