[发明专利]一种晶圆干式抛光装置及方法有效
| 申请号： | 201510996635.6 | 申请日： | 2015-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN105598805B | 公开（公告）日： | 2018-07-20 |
| 发明（设计）人： | 赵岁花;衣忠波;王仲康;高岳;张文斌;刘国敬 | 申请（专利权）人： | 北京中电科电子装备有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B41/04;B24B47/20;B24B49/16;B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;安利霞 |
| 地址： | 100176 北京市经*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种晶圆干式抛光装置及方法，其中晶圆干式抛光装置包括：设置于工作台上用于检测抛光压力值的压力控制系统，压力控制系统包括抛光机构；与抛光机构和机架分别连接的气缸；以及与抛光机构和机架分别连接的用于驱动抛光机构运动的电机；其中，气缸与抛光机构固定连接，电机位于抛光机构的上方，与抛光机构连接。本发明实施例通过采用压力传感器控制压力实现恒压力抛光、气缸平衡抛光机构重力及实现缓冲、电机带动抛光机构进给的设计，使该装置整体结构紧凑，安装简单，结构可靠、运行平稳。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶圆干式 抛光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种晶圆干式抛光装置，其特征在于，包括：设置于工作台上用于检测抛光压力值的压力控制系统，所述压力控制系统包括抛光机构，与所述抛光机构连接的压力传感器连接板，设置于所述压力传感器连接板上的至少一压力传感器；所述抛光机构包括：与工作台接触的抛光磨轮，位于所述抛光磨轮上与所述抛光磨轮连接的抛光主轴，所述抛光主轴穿设所述压力传感器连接板，所述抛光主轴的连接孔位于所述压力传感器连接板的下方，以及设置在所述抛光主轴上的抛光主轴轴套；与所述抛光机构和机架分别连接的气缸；以及与所述抛光机构和所述机架分别连接的用于驱动所述抛光机构运动的电机；其中，所述气缸与所述抛光机构固定连接，所述电机位于所述抛光机构的上方，与所述抛光机构连接。
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