[发明专利]一种转移型镭射压印聚酯薄膜及其制备方法

摘要

本发明提供了一种转移型镭射压印聚酯薄膜及其制备方法，该新型聚酯薄膜具有三层层状结构：其上表层是由非结晶型PET聚酯、SiO₂添加剂型PET聚酯、聚硅氧烷脱模剂形成的转移型镭射压印层；转移型镭射压印层直接共挤复合有成分为PET聚酯均聚物、SiO₂添加剂型PET聚酯的芯层；芯层的另一个表面直接共挤复合有成分为PET聚酯均聚物、SiO₂添加剂型PET聚酯的下表层；本发明所述薄膜中转移型镭射压印层和采用常规涂布法生产的转移型镭射压印层相比：一是压印后具有更清晰的全息图像，保证图像信息的丰富性和完整性；二是具有更高的亮度；三是压印图像可进行转移；因此，本发明转移型镭射压印聚酯薄膜具有广泛的市场应用价值。

主权项

一种转移型镭射压印聚酯薄膜，其特征在于，所述的转移型镭射压印聚酯薄膜由上表层、芯层、下表层构成，所述芯层位于上表层与下表层之间，所述上表层、芯层、下表层通过热熔共挤复合成为一体；所述转移型镭射压印聚酯薄膜各层的原料配方为：基于上表层的总质量，所述上表层由如下质量百分数的原料组成：非结晶型PET聚酯80％～90％、SiO₂添加剂型PET聚酯5％～10％、聚硅氧烷脱模剂5％～10％；基于芯层的总质量，所述芯层由如下质量百分数的原料组成：PET聚酯均聚物80％～90％、SiO₂添加剂型PET聚酯10％～20％；基于下表层的总质量，所述下表层由如下质量百分数的原料组成：PET聚酯均聚物60％～70％、SiO₂添加剂型PET聚酯30％～40％；上述各层的原料中，所述的SiO₂添加剂型PET聚酯的SiO₂含量为3000～5000ppm。