[发明专利]一种具有良好孔掩蔽功能的干膜抗蚀剂及其层压体

摘要

本发明提供一种具有良好孔掩蔽和分辨率的干膜抗蚀剂及其层压体，所述干膜抗蚀剂包括第一组分和第二组分，所述第一组分由碱可溶性聚合物、含有乙烯基的不饱和单体或寡聚物、光引发剂和助剂组成；所述第二组分由含羧基的碱可溶性聚合物、含有乙烯基的不饱和键单体或寡聚物、光引发剂、结构式I的化合物、以及助剂组成；所述层压体包括支撑体、由第一组分构成的第一抗蚀层，由第二组分构成的第二抗蚀层，以及层叠于第二抗蚀剂层之上的保护膜。本发明通过对两种组分设计不同的分子量和交联密度，实现了良好的显影性和孔掩蔽性能。。

主权项

1.一种具有良好孔掩蔽和分辨率的干膜抗蚀剂，其特征在于，包括第一组分和第二组分，所述第一组分由50~70重量份重均分子量为80000~160000的含羧基的碱可溶性聚合物、15~45重量份含有乙烯基的不饱和单体或寡聚物、0.5~10重量份的光引发剂和0~5重量份的助剂组成；所述第二组分由50~70重量份重均分子量为30000~120000的含羧基的碱可溶性聚合物、15~45含有乙烯基的不饱和键单体或寡聚物、0.5~10重量份的光引发剂、0.1~2重量份结构式I的化合物、以及0~5重量份的助剂组成；所述第一组合物中含羧基的碱可溶性聚合物比第二组合物中含羧基的碱可溶性聚合物的重均分子量大；或者相同质量的第一组分和第二组分中，第一组合物中的乙烯基的数量大于第二组合物中乙烯基的数量；其中，R1、R2、R3、R4、R5均选自H、COOH、OH，且R1、R2、R3、R4、R5中至少包含一个OH基团或COOH基团。