[发明专利]一种富含水的光阻残留物清洗液组合物在审
| 申请号： | 201511019286.9 | 申请日： | 2015-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN106933067A | 公开（公告）日： | 2017-07-07 |
| 发明（设计）人： | 郑玢;刘兵;孙广胜;黄达辉 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所11352 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种去除光阻蚀刻残留物的清洗液组合物，其包含(a)醇胺(b)溶剂(c)水(d)酚类化合物(e)表面活性剂。该清洗液组合物富含水且不含氟化物和羟胺，能够快速的去除由于硬烤、干法刻蚀、灰化和等离子注入引起复杂化学变化，而发生交联硬化的光刻胶，并且能够实现在去除金属线(Metal)、通孔(Via)和金属垫(Pad)晶圆上的光阻残留物的同时，对于基材(如金属铝，非金属二氧化硅等)基本没有攻击，特别是对于金属铝有良好的保护作用。本发明的清洗液在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 含水 残留物 清洗 组合 | ||
【主权项】：
一种富含水的光阻残留物清洗液组合物，其特征在于，所述清洗液含有醇胺、水、溶剂、酚类化合物及表面活性剂。
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