[发明专利]一种改善保护膜用有机硅压敏胶黏剂稳定性的方法有效
申请号: | 201511022029.0 | 申请日: | 2015-12-30 |
公开(公告)号: | CN105418929B | 公开(公告)日: | 2018-06-08 |
发明(设计)人: | 潘成诚 | 申请(专利权)人: | 安徽明讯新材料科技股份有限公司 |
主分类号: | C08G77/38 | 分类号: | C08G77/38;C08G77/34;C09J183/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 242000 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本案为一种改善保护膜用有机硅压敏胶黏剂稳定性的方法,包括:步骤1)除水:向反应体系中加入含有恶唑烷类化合物的除水剂以除去反应体系中残留的水份;步骤2)去羟基:向反应体系中加入含有硅氮烷类化合物的硅羟基去除剂;步骤3)催化剂的彻底灭活:(a)当使用一级胺或二级胺为缩聚催化剂时,在氮气反应氛围下保持胶黏剂反应体系在70℃左右,将一级胺或二级胺与醛类或酮类、低级羧酸反应生成席夫碱,然后再将生成的不稳定的席夫碱与丙二酸二乙酯反应,使席夫碱变成无催化活性的β-氨基酸;(b)当使用二级胺或三级胺作为缩聚催化剂时,通过向反应体系中加入可与二级胺或三级胺反应形成稳定化合物的酸性物质;步骤4)真空脱除残余小分子物质。 | ||
搜索关键词: | 有机硅压敏胶黏剂 缩聚催化剂 保护膜 三级胺 席夫碱 一级胺 反应生成席夫碱 硅氮烷类化合物 氮气 丙二酸二乙酯 稳定化合物 无催化活性 小分子物质 低级羧酸 恶唑烷类 反应氛围 酸性物质 除水剂 硅羟基 胶黏剂 去除剂 氨基酸 除水 灭活 醛类 水份 酮类 脱除 羟基 催化剂 残留 | ||
【主权项】:
一种改善保护膜用有机硅压敏胶黏剂稳定性的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1)除水:在有机硅压敏胶黏剂制备过程中,在缩聚工序完成后,向反应体系中加入含有恶唑烷类化合物的除水剂以除去反应体系中残留的水份;步骤2)去羟基:在完成步骤1)后,向反应体系中加入含有硅氮烷类化合物的硅羟基去除剂以降低胶黏剂分子结构中的残留羟基;步骤3)催化剂的彻底灭活:完成步骤2)后,即可进行催化剂的灭活处理,分为以下两种情况:(a)在有机硅压敏胶黏剂制备过程中,当使用一级胺或二级胺为缩聚催化剂时,在氮气反应氛围下保持胶黏剂反应体系在70℃,将一级胺或二级胺与醛类或酮类、低级羧酸反应生成席夫碱,然后再将生成的不稳定的席夫碱与丙二酸二乙酯反应,使席夫碱变成无催化活性的β-氨基酸;(b)在有机硅压敏胶黏剂制备过程中,当使用二级胺或三级胺作为缩聚催化剂时,通过向反应体系中加入可与二级胺或三级胺反应形成稳定化合物的酸性物质;步骤4)真空脱除残余小分子物质:对步骤3)后的有机硅压敏胶黏剂进行真空处理以脱除其中残留的小分子;所述除水剂中含有的恶唑烷类化合物为以酮为基础的低分子量单环噁唑烷;所述硅羟基去除剂为含有可和硅羟基进行反应的硅氮烷类化合物为六甲基二硅氮烷、六甲基环三硅氮烷、四甲基二乙烯基硅氮烷、氮杂环戊烷、氮杂环己烷中的至少一种;所述酸性物质含有酰氯类化合物。
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