[发明专利]一种调整半导体激光器波长的方法有效
申请号: | 201511022234.7 | 申请日: | 2015-12-30 |
公开(公告)号: | CN105449516A | 公开(公告)日: | 2016-03-30 |
发明(设计)人: | 殷方军;李沛旭;苏建;蒋锴;徐现刚 | 申请(专利权)人: | 山东华光光电子有限公司 |
主分类号: | H01S5/068 | 分类号: | H01S5/068;H01S5/10 |
代理公司: | 济南日新专利代理事务所 37224 | 代理人: | 王书刚 |
地址: | 250101 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 一种调整半导体激光器波长的方法,包括以下步骤:(1)将加工好的半导体激光器外延片解理成巴条;(2)将巴条放入镀膜机中,镀膜机抽真空后对巴条烘烤;(3)达到步骤(2)中所述烘烤温度和真空度后,在巴条前腔面蒸镀增透膜,改变前腔面的反射率;(4)在后腔面上蒸镀高反膜,交替蒸镀光学厚度为λ/4的高低折射率镀膜,λ为半导体激光器的波长,使后腔面反射率大于98%。该方法可以主动双向调节半导体激光器波长,工艺简单,易于实现,可以在一定范围内调整半导体激光器的波长,提高了半导体激光器波长的对档率。 | ||
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【主权项】:
一种调整半导体激光器波长的方法,其特征是,包括以下步骤:(1)将加工好的半导体激光器外延片解理成巴条;(2)将巴条放入镀膜机中,镀膜机抽真空后对巴条烘烤;(3)达到步骤(2)中所述烘烤温度和真空度后,在巴条前腔面蒸镀增透膜,改变前腔面的反射率;(4)在后腔面上蒸镀高反膜,交替蒸镀光学厚度为λ/4的高低折射率镀膜,λ为半导体激光器的波长,使后腔面反射率大于98%。
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