[发明专利]有机真空涂布系统及薄膜形成方法在审
| 申请号： | 201511022437.6 | 申请日： | 2015-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN105734496A | 公开（公告）日： | 2016-07-06 |
| 发明（设计）人： | 杨贻谋 | 申请（专利权）人： | 大永真空科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 任岩 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种有机真空涂布系统，包含有一腔体，具有一容室可抽真空；一载台，设于该腔体的容室，供装设被镀物；一蒸发源，设于该腔体的容室；一有机单体供应装置，是对该蒸发源喷射有机单体使蒸发到被镀物上；一固化装置，对该被镀物成形的薄膜加以固化。本发明还提供一种使用所述有机真空涂布系统的薄膜形成方法。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 真空 系统 薄膜 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种有机真空涂布系统，包含有：一腔体(10)，具有一容室(11)可抽真空；一载台(20)，设于该腔体(10)的容室(11)，供装设被镀物；一蒸发源(30)，设于该腔体(10)的容室(11)；一有机单体供应装置(40)，对该蒸发源(30)喷射有机单体使蒸发到被镀物上；一固化装置(50)，对该被镀物成形的薄膜加以固化。
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