[发明专利]一种光栅测量系统在审

专利信息
申请号: 201511025782.5 申请日: 2015-12-30
公开(公告)号: CN106931877A 公开(公告)日: 2017-07-07
发明(设计)人: 吴萍;张志平 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 屈蘅,李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种光栅测量系统,包括测量装置和光栅,所述测量装置设置有测量光束和参考光束,所述测量光束沿光束传播方向,依次经过光源、分光单元、所述光栅、第一回射单元、所述光栅、所述分光单元后,入射至信号接收单元,所述参考光束沿光束传播方向,依次经过光源、所述分光单元、扩束单元、第二回射单元、所述分光单元入射至所述信号接收单元。本发明采用扩束元件对第二光束即参考光束进行扩束,增大参考光束的直径尺寸,使第一光束即测量光束能够偏移更大距离,参考光束与测量光束能够部分重合产生被探测器探测的干涉光信号,在测量光束偏移更大距离的情况下光栅测量系统依然能正常工作,从而实现大行程光栅尺测量。
搜索关键词: 一种 光栅 测量 系统
【主权项】:
一种光栅测量系统,包括测量装置和光栅,其特征在于,所述测量装置设置有测量光束和参考光束,所述测量光束沿光束传播方向,依次经过光源、分光单元、所述光栅、第一回射单元、所述光栅、所述分光单元后,入射至信号接收单元,所述参考光束沿光束传播方向,依次经过光源、所述分光单元、扩束单元、第二回射单元、所述分光单元入射至所述信号接收单元。
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