[发明专利]一种光刻机同步控制系统及方法有效

专利信息
申请号: 201511026460.2 申请日: 2015-12-30
公开(公告)号: CN106933050B 公开(公告)日: 2019-05-31
发明(设计)人: 方欣 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种光刻机同步控制系统及方法,所述光刻机同步控制系统包括干涉仪分系统和外部分系统,所述干涉仪分系统包括通过同步总线连接的同步控制卡、多通道光纤卡及干涉仪计数卡,所述同步控制卡通过外同步通道与所述外部分系统连接,所述多通道光纤卡通过光纤通道与所述外部分系统连接。本发明提供的技术方案,通过将干涉仪分系统和工件台掩模台分系统的硬件解耦,使干涉仪分系统的同步控制卡可以连接更多的测量轴和外部分系统,增加了干涉仪分系统以及工件台掩模台分系统的扩展性。通过提供格式和接口标准统一的外同步通道,实现外部分系统的扩展,提高了同步控制系统的通用性。
搜索关键词: 一种 光刻 同步 控制系统 方法
【主权项】:
1.一种光刻机同步控制系统,其特征在于,包括干涉仪分系统和外部分系统,所述外部分系统包括工件台掩模台分系统、对准分系统和照明分系统,所述干涉仪分系统包括通过同步总线连接的同步控制卡、多通道光纤卡及干涉仪计数卡,所述同步控制卡通过外同步通道分别与工件台掩模台分系统、对准分系统和照明分系统连接;所述多通道光纤卡通过光纤通道分别与工件台掩模台分系统、对准分系统和照明分系统连接。
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