[发明专利]一种强碱水热法制备微晶Bi-S基半导体材料的方法在审

专利信息
申请号: 201511026863.7 申请日: 2015-12-31
公开(公告)号: CN105668624A 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 刘玉峰;郑新峰;房永征;侯京山;张娜;赵国营 申请(专利权)人: 上海应用技术学院
主分类号: C01G29/00 分类号: C01G29/00
代理公司: 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 代理人: 杨军
地址: 200235 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种强碱水热法制备微晶Bi-S基半导体材料的方法,该方法首先将含硫化合物、氧化铋或铋盐、强碱和去离子水加入到反应釜中,在温室条件下搅拌,然后放入真空烘箱中加热反应,反应完成取出反应釜,将所得到的产物离心,干燥即得最终产物。该方法的优点在于所用的实验设备简单,操作方便,元素化学计量比精确,所需的原料价格低廉、无毒性,制备的产物具有片状形貌,并且具有良好的光电探测性能。
搜索关键词: 一种 碱水 法制 备微晶 bi 半导体材料 方法
【主权项】:
一种强碱水热法制备微晶Bi‑S基半导体材料的方法,其特征在于,具体步骤如下:首先将3‑25mmol的含硫化合物、1‑10mmol氧化铋或铋盐、5‑30g强碱和5‑30mL的去离子水加入到反应釜中,搅拌10‑30min至反应物溶解;然后将反应釜密封放入200‑240℃的真空烘箱中加热反应1‑5天;最后离心、干燥即得微晶Bi‑S基半导体材料;其中:所述含硫化合物选自硫脲、硫粉、硫化钠、硫代乙酸、硫代硫酸钠或硫代乙酰胺中任意一种;所述强碱选自氢氧化钠、氢氧化钾或氢氧化铯中任意一种;所述微晶Bi‑S基半导体材料用化学式ABiS2表示,其中A选自Na、K或Cs中任意一种。
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