[发明专利]一种基于双向扫描的视差图生成方法及电路设计有效

专利信息
申请号: 201511028911.6 申请日: 2015-12-31
公开(公告)号: CN105654526B 公开(公告)日: 2018-07-20
发明(设计)人: 李朔;杨高峰;盛赞 申请(专利权)人: 南京华捷艾米软件科技有限公司
主分类号: G06T11/00 分类号: G06T11/00;G06F17/50
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 吴树山
地址: 210012 江苏省南京市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种基于双向扫描的视差图生成方法及电路设计,它包括:步骤1,图像分块:把图像分成若干小块,对每个小块分别进行处理;步骤2,双向扫描计算视差值:在每个小块内,分别从正向和反向进行双向扫描,计算每个像素点的视差值,并存储下来;双向扫描过程中,遇到视差值大于阈值的点,则记为视差值可靠点;找到视差值可靠点后,后续的扫描按照视差修正规则,对像素的视差值进行修正;对视差被修正的像素点做标记;步骤3,合并视差值:双向扫描结束后,把正向与反向扫描得到的视差值进行合并,并输出合并的结果。本发明能够在计算过程中对视差值进行修正,得到比直接计算更准确的视差值;同时适用于芯片设计并使其达到很快的处理速度。
搜索关键词: 一种 基于 双向 扫描 视差 生成 方法 电路设计
【主权项】:
1.一种基于双向扫描的视差图生成方法,包括如下基本步骤:步骤1,图像分块:把图像分成若干小块,对每个小块分别进行处理;步骤2,双向扫描计算视差值:在每个小块内,分别从正向和反向进行双向扫描,计算每个像素点的视差值,并存储下来;双向扫描过程中,遇到视差值大于阈值的点,则记为视差值可靠点;找到视差值可靠点后,后续的扫描按照视差修正规则,对像素的视差值进行修正;对视差被修正的像素点做修正标记;步骤3,合并视差值:双向扫描结束后,把正向与反向扫描得到的视差值进行合并,并输出合并的结果。
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