[发明专利]一种曝光装置及方法

摘要

本发明公开了一种曝光装置及方法，该装置包括激光器、光学系统、掩模版、基底台和运动控制模块，所述激光器发射光源经所述光学系统汇聚成平行光，经所述掩模版入射到位于所述基底台上的基底表面，所述运动控制模块在基底曝光过程中控制所述基底台作垂向运动。本发明采用运动控制模块控制工件台在基底边缘曝光的过程中作垂向扫描运动，无需控制工件台的垂直方向实际位置，只需控制垂向扫描距离即可，简化了操作过程。

主权项

1.一种曝光方法，用于基底边缘曝光，其特征在于，包括：步骤一、将掩模版放置在掩模台上，将基底放置在基底台上，运动控制模块控制所述基底台移动，使所述基底上的待曝光边缘场移动到曝光位置，曝光光源在垂直方向的分布呈周期性；步骤二、计算并设置所述基底台的垂向运动速度，其中，所述基底台垂向运动一个周期的运动距离等于整数倍个所述曝光光源的垂直方向周期；步骤三、所述基底台匀速的垂向周期性运动，对所述基底上的待曝光边缘场进行曝光；步骤四、判断是否完成所有边缘场曝光，若没有，所述基底台水平移动，将下一待曝光边缘场移到曝光位置，重复步骤二和三；若完成所有边缘场曝光，取下基底，操作结束。