[实用新型]能实现电流双向流通的功率MOSFET器件有效

专利信息
申请号: 201520016806.X 申请日: 2015-01-09
公开(公告)号: CN204375757U 公开(公告)日: 2015-06-03
发明(设计)人: 朱袁正;叶鹏 申请(专利权)人: 无锡新洁能股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L21/336;H01L29/41
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 曹祖良;张涛
地址: 214131 江苏省无锡市滨湖区高浪东路999号*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及一种能实现电流双向流通的功率MOSFET器件,其元件区包括栅极金属区、源极金属区以及体极金属区,在源极金属区内包括源极金属以及元胞;元胞包括位于第一导电类型漂移区内上方的第二导电类型第一阱区、位于所述第二导电类型第一阱区内上方的第一导电类型注入区以及MOS栅结构;源极金属与第一导电类型注入区电连接,且第一导电类型注入区将源极金属与第二导电类型第一阱区隔离;体极金属区包括第二导电类型第二阱区以及体极金属,第二导电类型第二阱区与第二导电类型第一阱区等电位,且第二导电类型第二阱区与体极金属电连接。本实用新型可以实现电流在源极与漏极之间的双向流通,制造工艺简单,成本低廉,宜于批量生产。
搜索关键词: 实现 电流 双向 流通 功率 mosfet 器件
【主权项】:
一种能实现电流双向流通的功率MOSFET器件,在所述MOSFET器件的俯视平面上,包括位于半导体基板上的元件区以及终端保护区,所述终端保护区位于元件区的外圈,且终端保护区环绕包围元件区;在所述MOSFET器件的截面,所述半导体基板包括位于上部的第一导电类型漂移区以及位于下部的第一导电类型衬底层,所述第一导电类型衬底层邻接第一导电类型漂移区;第一导电类型漂移区的上表面形成半导体基板的第一主面,第一导电类型衬底层的下表面形成半导体基板的第二主面;其特征是:在所述MOSFET器件的俯视平面上,元件区包括相互绝缘隔离的栅极金属区、源极金属区以及体极金属区,在所述源极金属区内包括用于形成源极的源极金属以及位于所述源极金属下方的多个呈平行分布的元胞;在所述MOSFET器件的截面上,元胞包括位于第一导电类型漂移区内上方的第二导电类型第一阱区、位于所述第二导电类型第一阱区内上方的第一导电类型注入区以及MOS栅结构;源极金属与第一导电类型注入区电连接,且第一导电类型注入区将源极金属与第二导电类型第一阱区隔离;在所述MOSFET器件的截面上,体极金属区包括位于第一导电类型漂移区内上方的第二导电类型第二阱区以及位于所述第二导电类型第二阱区上方的体极金属,第二导电类型第二阱区与第二导电类型第一阱区等电位,且第二导电类型第二阱区与体极金属电连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡新洁能股份有限公司;,未经无锡新洁能股份有限公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201520016806.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top