[实用新型]一种FinFet器件源漏外延设备

摘要

本实用新型提供了一种FinFet器件源漏外延设备，其包括：主腔室；至少一个装片室；中转腔，中转腔内设置有机械手臂；至少一个腐蚀腔，腐蚀腔中设置有石墨基座；至少一个外延反应腔；用于向主腔室、装片室、中转腔、腐蚀腔和外延反应腔中供应气体的气体分配装置；用于给设备抽真空的抽真空装置；装片室、中转腔、腐蚀腔和外延反应腔均位于主腔室中。本实用新型提供的FinFet器件源漏外延设备通过将腐蚀腔和外延反应腔集成到一起，可以在隔绝水氧的条件下进行外延反应前晶圆表面自然氧化层的去除，能更好的隔绝水氧与晶圆表面的接触，避免了晶圆表面再次生成自然氧化层，提高了外延工艺的选择性以及器件的可靠性。

主权项

一种FinFet器件源漏外延设备，其特征在于，包括：主腔室；至少一个用于加载晶圆的装片室；用于晶圆流转的中转腔，所述中转腔内设置有用于转移晶圆的机械手臂；至少一个用于去除晶圆表面自然氧化层的腐蚀腔，所述腐蚀腔中设置有用于放置晶圆的石墨基座；至少一个用于外延反应的外延反应腔；用于向所述主腔室、所述装片室、所述中转腔、所述腐蚀腔和所述外延反应腔中供应气体的气体分配装置；用于给设备抽真空的抽真空装置；所述装片室、所述中转腔、所述腐蚀腔和所述外延反应腔均位于所述主腔室中。