[实用新型]功率IC器件有效

专利信息
申请号: 201520070002.8 申请日: 2015-01-30
公开(公告)号: CN204614787U 公开(公告)日: 2015-09-02
发明(设计)人: 郝建勇;张志娟;周炳 申请(专利权)人: 张家港意发功率半导体有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L29/739
代理公司: 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 代理人: 鞠明
地址: 215600 江苏省苏州市张家港*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种功率IC器件,包括设置在同一芯片上的表层沟道CMOS晶体管和沟槽型功率IGBT晶体管,所述的沟槽型功率IGBT晶体管的发射极和所述的表层沟道CMOS晶体管的栅极设置在同一水平面。本实用新型功率IC器件,采用沟槽型功率IGBT晶体管结构取代传统的平面型IGBT结构,并与表层沟道CMOS晶体管形成在同一个芯片上,这样会在单位面积内增加管芯数,从而提高产量,增加效益。
搜索关键词: 功率 ic 器件
【主权项】:
一种功率IC器件,其特征是:包括设置在同一芯片上的表层沟道CMOS晶体管(1)和沟槽型功率IGBT晶体管(2),所述的沟槽型功率IGBT晶体管(2)的发射极(3)和所述的表层沟道CMOS晶体管(1)的栅极(4)设置在同一水平面。
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