[实用新型]一种用于钕铁硼磁体的镀膜设备

摘要

本实用新型主要涉及一种用于钕铁硼磁体的镀膜设备，专用镀膜设备的基本原理为双层辉光等离子表面冶金，其主要特点是结构包括真空室，真空室中部平行等距且相互绝缘的源极和阴极，源极和阴极外的隔热栅，真空室上方的阳极，真空室下方的氩气入口以及真空室后方的真空系统，真空室外的测温系统；表面生成的金属膜层厚度均匀且金属靶材的利用率高，整个镀膜过程中温度相对偏低，对磁体的损害较小，可控性强，无污染，对人体无损害，设备结构简单，靶材限制性小。

主权项

 一种用于钕铁硼磁体的镀膜设备，包括真空室（8），其特征在于，所述的真空室（8）中设相互绝缘等距分布的源极（2）和阴极（3），源极（2）和阴极（3）外设置隔热栅（12），真空室（8）上方设阳极（1）；阳极（1）和阴极（3）分别接在脉冲偏压电源（9）的正极和负极，阳极（1）和源极（2）分别接在直流偏压电源（10）的正极和负极，且阳极（1）接地；真空室（8）后侧设真空系统（11），真空室（8）的底部设氩气入口（7），真空室（8）的前侧设真空室炉门（4），真空室炉门（4）中部设置有观察窗（5），在真空室（8）外设光学测温仪（6），光学测温仪（6）位置与观察窗（5）对应。