[实用新型]一种等离子体刻蚀机有效

专利信息
申请号: 201520127847.6 申请日: 2015-03-05
公开(公告)号: CN204391038U 公开(公告)日: 2015-06-10
发明(设计)人: 缪国芳;王志宝;谢贤清 申请(专利权)人: 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 代理人: 陆金星
地址: 215129 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种等离子体刻蚀机,包括线圈支架和电感线圈,所述线圈支架包括上固定环、下固定环、设于上固定环与下固定环之间的至少3根支撑杆;所述支撑杆的外侧壁上设有线圈槽,使电感线圈沿着线圈槽螺旋缠绕于支架之上;所述支撑杆的外侧还设有配合的盖板,使电感线圈夹持于支撑杆和盖板之间。本实用新型的线圈支架不仅起到固定作用,还保证线圈不易变形,减少电感线圈的更换频次,延长石英坩埚的使用寿命,提高设备的稳定性;从而有效提高了刻蚀效果。
搜索关键词: 一种 等离子体 刻蚀
【主权项】:
一种等离子体刻蚀机,包括线圈支架和电感线圈,其特征在于:所述线圈支架包括上固定环(1)、下固定环(2)、设于上固定环(1)与下固定环(2)之间的至少3根支撑杆(3);所述支撑杆(3)的外侧壁上设有线圈槽(5),使电感线圈沿着线圈槽螺旋缠绕于支架之上;所述支撑杆(3)的外侧还设有配合的盖板(4),使电感线圈夹持于支撑杆和盖板之间。
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