[实用新型]一种用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置有效
申请号: | 201520127895.5 | 申请日: | 2015-03-05 |
公开(公告)号: | CN204391073U | 公开(公告)日: | 2015-06-10 |
发明(设计)人: | 金佐良;乔勇;谢贤清 | 申请(专利权)人: | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L31/18 |
代理公司: | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 | 代理人: | 陆金星 |
地址: | 215129 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置,包括滚轮传送机构、升降电机,升降电机上设有升降台,所述升降台具有升降台上位和升降台下位;所述升降台下位处设有行程开关;所述升降台下位等待区域设有定位汽缸;所述定位汽缸由行程开关控制连接,使定位汽缸具有如下2个工作位。本实用新型通过设置行程开关以及定位汽缸实现了石墨框的准确定位,在石墨框的传输过程中,保证升降电机在运行状态下,石墨框能准确定位而不超出允许范围,避免了升降电机对极限位光电传感器输出信号的盲区,从而解决了升降电机在下降过程中夹住石墨框的故障问题。 | ||
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【主权项】:
一种用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置,包括滚轮传送机构(1)、升降电机,升降电机上设有升降台(8),所述升降台具有升降台上位(5)和升降台下位(10);还包括升降台上位等待区域(11)和升降台下位等待区域(9),所述升降台下位等待区域与所述升降台下位配合并位于升降台下位的侧部;其特征在于:所述升降台下位处设有行程开关(6);所述升降台下位等待区域设有定位汽缸(7);所述定位汽缸由行程开关控制连接,使定位汽缸具有如下2个工作位:(1) 当升降台移动至升降台下位时,升降台下压并触发行程开关,行程开关控制定位气缸的活塞下降,石墨框在滚轮传送机构的传输下正常往升降台下位进行传输;(2) 当升降台向上移动时,行程开关被放开,行程开关控制定位气缸的活塞上升,活塞挡于滚轮传送机构的前方,防止石墨框在滚轮传送机构的传输下超出活塞之外。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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