[实用新型]磁控溅射镀膜设备

摘要

本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜设备包括壳体、除尘装置，其中除尘装置包括吸盘、除尘磨头、干泵及用于带动吸盘和除尘磨头沿靶材非溅射区域长度方向移动的除尘移动装置，除尘磨头安装在吸盘内腔，且顶端高于吸盘顶端，吸盘内腔与干泵吸口连通，吸盘、除尘磨头及除尘移动装置均安装在壳体的腔室内。在本实用新型提供的磁控溅射镀膜设备中，通过除尘磨头清理靶材上的粉尘，粉尘在重力和干泵吸力的作用下下落，最终被干泵吸出，除尘移动装置带动吸盘移动，使得靶材上的粉尘吸出，避免清洗靶材上粉尘时需要将靶材取出清洗的情况，省去了磁控溅射镀膜设备抽真空和除去靶材氧化膜的时间，解决由于磁控溅射镀膜设备除尘时间长，导致的稼动率低的问题。

主权项

一种磁控溅射镀膜设备，包括壳体，其特征在于，还包括除尘装置，所述除尘装置包括吸盘(2)、除尘磨头(1)、干泵及用于带动所述吸盘(2)和所述除尘磨头(1)沿靶材非溅射区域(10)长度方向移动的除尘移动装置，所述除尘磨头(1)安装在所述吸盘(2)内腔，且顶端高于所述吸盘(2)顶端，所述吸盘(2)内腔与所述干泵吸口连通，所述吸盘(2)、所述除尘磨头(1)及所述除尘移动装置均安装在所述壳体的腔室(11)内。