[实用新型]一种掩模版的清洗装置有效
| 申请号： | 201520154728.X | 申请日： | 2015-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN204523639U | 公开（公告）日： | 2015-08-05 |
| 发明（设计）人： | 侯广杰 | 申请（专利权）人： | 深圳市龙图光电有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B1/04;F26B21/00 |
| 代理公司： | 深圳市君盈知识产权事务所(普通合伙) 44315 | 代理人： | 陈琳 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及掩模版技术领域，具体涉及一种掩模版的清洗装置，包括掩模版支架，用于夹持固定掩模版；清洗组件，分别设置在掩模版两侧，用于同步清洗掩模版的两侧面；循环净化单元，包括一密封仓、净化过滤模块和水气分离槽，该密封仓分别与净化过滤模块和水气分离槽连通；该掩模版支架和清洗组件均设置在密封仓内。本实用新型通过设计一双面同步清洗掩模版的清洗装置，对掩模版进行双面同步清洗，并采用清洗、冲洗、晾干一体化操作，提高清洗效率、节省人力；同时将清洗环境设置在一循环净化单元中，采用基于风机净化器的自动循环水气分离的密闭净化方式，提高清洗的干净度，且节省水电用量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 模版 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种掩模版的清洗装置，其特征在于，包括：掩模版支架，用于夹持固定掩模版；清洗组件，分别设置在掩模版两侧，用于同步清洗掩模版的两侧面；循环净化单元，包括一密封仓、净化过滤模块和水气分离槽，该密封仓分别与净化过滤模块和水气分离槽连通；该掩模版支架和清洗组件均设置在密封仓内。
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