[实用新型]激光测量核孔膜均匀度的装置有效
申请号: | 201520158290.2 | 申请日: | 2015-03-20 |
公开(公告)号: | CN204731151U | 公开(公告)日: | 2015-10-28 |
发明(设计)人: | 莫丹;袁平;刘杰;曹殿亮;刘建德;张胜霞 | 申请(专利权)人: | 中国科学院近代物理研究所 |
主分类号: | G01N21/17 | 分类号: | G01N21/17;G01N21/59 |
代理公司: | 兰州振华专利代理有限责任公司 62102 | 代理人: | 张真 |
地址: | 730000 甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种激光测量核孔膜均匀度的装置,其主要特点在于包括有支架,支架包括有水平支架和竖直支架,在竖直支架的上端设有激光器,在竖直支架的中部设有二维平移台,其二维平移台的台面为透明板:在水平支架上设有光探测器;激光器与光探测器在一个中心线上。本实用新型的优点是:采用可调束斑大小激光可以精准探测所需要了解的位置点的信息,可以根据不同的扫描方式,来统计所关心的不同位置的信息。这种扫描的方式,可以通过计算机编程,自动的进行获取,从而迅速得到样品的均匀度信息。 | ||
搜索关键词: | 激光 测量 核孔膜 均匀 装置 | ||
【主权项】:
一种激光测量核孔膜均匀度的装置,其特征在于包括有支架,支架包括有水平支架和竖直支架,在竖直支架的上端设有激光器,在竖直支架的中部设有二维平移台,其二维平移台的台面为透明板:在水平支架上设有光探测器;激光器与光探测器在一个中心线上。
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