[实用新型]用于多晶硅还原炉的底盘组件有效
| 申请号： | 201520179793.8 | 申请日： | 2015-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN204625193U | 公开（公告）日： | 2015-09-09 |
| 发明（设计）人： | 姚心;汪绍芬;严大洲 | 申请（专利权）人： | 中国恩菲工程技术有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/03 | 分类号： | C01B33/03 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 宋合成 |
| 地址： | 100038*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于多晶硅还原炉的底盘组件，所述用于多晶硅还原炉的底盘组件包括：底盘本体，所述底盘本体内限定有冷却腔；多个电极，多个所述电极设在所述底盘本体上；多个中心进气管，多个所述中心进气管设在所述底盘本体的中心处；多个外圈进气管组，多个所述外圈进气管组设在所述底盘本体的外周缘处且沿所述底盘本体的周向间隔开设置，每个所述外圈进气管组包括排列成环形的多个外圈进气管；多个排气管，多个所述进气管设置在所述底盘本体上且位于多个所述电极的外侧。根据本实用新型实施例的用于多晶硅还原炉的底盘组件具有能够提高炉内气流循环效率以提高多晶硅的生产效率高，且不易倒棒等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 多晶 还原 底盘 组件 | ||
【主权项】：
一种用于多晶硅还原炉的底盘组件，其特征在于，包括：底盘本体，所述底盘本体内限定有冷却腔；多个电极，多个所述电极设在所述底盘本体上；多个中心进气管，多个所述中心进气管设在所述底盘本体的中心处；多个外圈进气管组，多个所述外圈进气管组设在所述底盘本体的外周缘处且沿所述底盘本体的周向间隔开设置，每个所述外圈进气管组包括排列成环形的多个外圈进气管；多个排气管，多个所述进气管设置在所述底盘本体上且位于多个所述电极的外侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国恩菲工程技术有限公司，未经中国恩菲工程技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201520179793.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种食品级蒸汽煅烧炉
- 下一篇：一种雾化制备氮化铝粉体的装置
