[实用新型]成像装置有效
| 申请号： | 201520193190.3 | 申请日： | 2015-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN204761572U | 公开（公告）日： | 2015-11-11 |
| 发明（设计）人： | D·费蒂格;R·S·约翰森 | 申请（专利权）人： | 半导体元件工业有限责任公司 |
| 主分类号： | H04N5/335 | 分类号： | H04N5/335;H04N13/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 刘倜 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种成像装置。所述成像装置具有图像像素阵列，所述图像像素阵列具有以线的形式连续布置的多个相位检测像素，其中所述多个相位检测像素包括：形成在衬底中并且被第一微透镜覆盖的第一光敏区域和第二光敏区域；以及形成在衬底中并且被第二微透镜覆盖的第三光敏区域和第四光敏区域，其中第一微透镜直接毗邻第二微透镜，并且其中第二光敏区域和第三光敏区域设置在第一光敏区域和第四光敏区域之间。根据本公开的多种实施例，能够提供具有深度感测能力的改进的成像系统或成像装置。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 装置 | ||
【主权项】：
一种成像装置，其特征在于：所述成像装置具有图像像素阵列，所述图像像素阵列具有以线的形式连续布置的多个相位检测像素，其中所述多个相位检测像素包括：形成在衬底中并且被第一微透镜覆盖的第一光敏区域和第二光敏区域；以及形成在所述衬底中并且被第二微透镜覆盖的第三光敏区域和第四光敏区域，其中所述第一微透镜直接毗邻所述第二微透镜，并且其中所述第二光敏区域和第三光敏区域设置在所述第一光敏区域和第四光敏区域之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于半导体元件工业有限责任公司，未经半导体元件工业有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201520193190.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种折叠平板电视
- 下一篇：一种内置温控功能的监控摄像机
