[实用新型]曝光机有效
申请号: | 201520197926.4 | 申请日: | 2015-04-02 |
公开(公告)号: | CN204613592U | 公开(公告)日: | 2015-09-02 |
发明(设计)人: | 代毓平;代童庆 | 申请(专利权)人: | 深圳市大川光电设备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人: | 曾少丽 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种曝光机。所述曝光机包括一壳体,所述壳体的前方形成一曝光平台,所述曝光平台包括曝光平面、盖设所述曝光平面的盖体以及设置于所述曝光平面下方的可移动灯箱,所述壳体的后方内置一散热导风系统,所述散热导风系统连通所述曝光平台。本实用新型提供了一种操作便捷、散热效果好的曝光机。 | ||
搜索关键词: | 曝光 | ||
【主权项】:
一种曝光机,其特征在于,所述曝光机包括一壳体,所述壳体的前方形成一曝光平台,所述曝光平台包括曝光平面、盖设所述曝光平面的盖体以及设置于所述曝光平面下方的可移动灯箱,所述壳体的后方内置一散热导风系统,所述散热导风系统连通所述曝光平台。
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