[实用新型]用于液相沉淀法制备粉体的装置有效
申请号: | 201520198961.8 | 申请日: | 2015-04-03 |
公开(公告)号: | CN204503098U | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
发明(设计)人: | 张记东;林文军;伏东才;唐亦秋 | 申请(专利权)人: | 株洲冶炼集团股份有限公司 |
主分类号: | B01J19/26 | 分类号: | B01J19/26 |
代理公司: | 长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙) 43213 | 代理人: | 杨斌 |
地址: | 412007 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于液相沉淀法制备粉体的装置,包括反应釜、用于控制反应釜内反应温度的恒温系统和配合盖设在反应釜顶部开口处的顶盖,顶盖上设有多根用于通入料液的加液管,多根加液管绕顶盖的中心均匀间隔布置,各加液管设有一个进口和多个将料液分散成液滴或雾状进入反应釜的细孔,细孔朝向反应釜的底部开设。本实用新型具有结构简单、适用范围广、操作方便、成本低、可显著提高粉末粒度均匀性和性能稳定性等优点。 | ||
搜索关键词: | 用于 沉淀 法制 备粉体 装置 | ||
【主权项】:
一种用于液相沉淀法制备粉体的装置,包括反应釜(1)、用于控制反应釜(1)内反应温度的恒温系统(2)和配合盖设在反应釜(1)顶部开口处的顶盖(3),其特征在于:所述顶盖(3)上设有多根用于通入料液的加液管(4),多根加液管(4)绕顶盖(3)的中心均匀间隔布置,各加液管(4)设有一个进口和多个将料液分散成液滴或雾状进入反应釜(1)的细孔(41),所述细孔(41)朝向反应釜(1)的底部开设。
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