[实用新型]电子鼻微机械装置有效
| 申请号： | 201520219419.6 | 申请日： | 2015-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN204705624U | 公开（公告）日： | 2015-10-14 |
| 发明（设计）人： | 钱满红 | 申请（专利权）人： | 安徽省安庆市汉城电子通讯有限公司 |
| 主分类号： | G01N33/00 | 分类号： | G01N33/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 246700 安徽省安庆*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了电子鼻微机械装置，涉及电子鼻系统装置领域。为了使微机械装置测量机制可以实现抗“疲劳”的目的，本实用新型包括铝层、一号阀、气敏阵列、二号阀、进气口、出气口、单晶硅、泵室、加热电阻，铝层与其下方的单晶硅膜合成双层膜，整个装置的底部为单晶硅结构，处在上下两层单晶硅结构之间的为泵室，一号阀位于泵室的进气口处，二号阀位于泵室的出气口，气敏阵列位于泵室内。本实用新型利用两个对称的结构部分，一个用于测量，另一个用于校验和替换，将“疲劳”间断化，使得敏感材料的特性得以恢复，实现了测量机制的抗“疲劳”。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 微机 装置 | ||
【主权项】：
电子鼻微机械装置，包括铝层（1）、一号阀（2）、气敏阵列（3）、二号阀（4）、进气口（5）、出气口（6）、单晶硅（7）、泵室（8）、加热电阻（9），其特征在于，所述铝层（1）与其下方的单晶硅（7）膜合成双层膜，整个装置的底部为单晶硅（7）结构，处在上下两层单晶硅（7）结构之间的为泵室（8），所述一号阀（2）位于泵室（8）的进气口（5）处，所述二号阀（4）位于泵室（8）的出气口（6）处，所述气敏阵列（3）位于泵室（8）内。
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