[实用新型]X射线光栅成像系统有效

专利信息
申请号: 201520243659.X 申请日: 2015-04-21
公开(公告)号: CN204758507U 公开(公告)日: 2015-11-11
发明(设计)人: 孙天希;孙学鹏;须颖;董友;刘志国 申请(专利权)人: 北京师范大学;天津三英精密仪器有限公司
主分类号: G01N23/20 分类号: G01N23/20
代理公司: 北京名华博信知识产权代理有限公司 11453 代理人: 苗源;李冬梅
地址: 100875 北京市海淀区新街*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开一种X射线光栅成像系统,该X射线光栅成像系统包括:X射线光源;多毛细管X射线源光栅,其入口端设置有X射线光源,用于会聚X射线光源发射的X射线并得到用于照射样品的相干光;多毛细管X射线相位光栅,设置于样品之后,用于收集并调制照射样品后的X射线产生衍射自成像效应;多毛细管X射线分析吸收光栅,设置于相位光栅之后,用于收集相位光栅射出的X射线并进行处理,将其中的相位信息转化为可识别的光强信息;X射线探测器,设置在分析吸收光栅之后,用于探测并收集样品的信息。本实用新型的X射线光栅成像系统采用具有较大“高宽比”的多毛细管X射线光栅,不仅可提高分辨率,还能降低造价成本,便于推广。
搜索关键词: 射线 光栅 成像 系统
【主权项】:
一种X射线光栅成像系统,其特征在于,包括:X射线光源(1);多毛细管X射线源光栅(2),其入口端设置有所述X射线光源(1),用于会聚所述X射线光源(1)发射的X射线并得到用于照射样品(3)的相干光;多毛细管X射线相位光栅(4),设置于所述样品(3)之后,用于收集并调制照射所述样品(3)后的X射线产生衍射自成像效应;多毛细管X射线分析吸收光栅(5),设置于所述多毛细管X射线相位光栅(4)之后,位于所述衍射自成像效应对应的自成像平面位置处,所述多毛细管X射线分析吸收光栅(5)用于收集并处理所述多毛细管X射线相位光栅(4)射出的X射线,将其中的相位信息转化为可识别的光强信息;X射线探测器(6)设置在所述多毛细管X射线分析吸收光栅(5)之后,用于探测并收集所述样品(3)的信息。
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