[实用新型]一种全封闭多功能复合渗注镀膜机有效
| 申请号： | 201520244448.8 | 申请日： | 2015-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN204644461U | 公开（公告）日： | 2015-09-16 |
| 发明（设计）人： | 鄢强;宋慧瑾 | 申请（专利权）人： | 成都金倍科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/48 | 分类号： | C23C14/48 |
| 代理公司： | 成都正华专利代理事务所(普通合伙) 51229 | 代理人： | 李林合 |
| 地址： | 610000 四川省成都市高新区*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种全封闭多功能复合渗注镀膜机，包括真空室、真空获得系统、圆柱靶、离子源、工件偏压、行星式公自转架、遮挡机构、气体输入机构、加热机构和专用电源等。三个及以上的圆柱靶以可镀工件区的中心为圆心均匀分布成单圆环、中心单圆环或双圆环；圆柱靶内磁轭上至少均布有三列磁铁，每个磁轭上磁铁的N级和S级间隔放置，相邻柱靶内磁轭上的近邻磁极相反。配置上离子源、工件偏压、行星式公自转架、遮挡机构后能形成几乎覆盖整个真空室的均匀等离子体区，从而使得所制备的薄膜或涂层的组织、结构、形貌、性能等得到明显改善。并能实现连续的等离子体渗入、注入以及多元多层复合镀膜或涂层工艺，降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 封闭 多功能 复合 镀膜 | ||
【主权项】：
一种全封闭多功能复合渗注镀膜机，其特征在于：包括真空室、真空获得系统、圆柱靶、离子源、工件偏压、行星式公自转架、遮挡机构、气体输入机构、加热机构和各功能区电源。
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