[实用新型]一种用于硅晶片表面研磨的研磨液供应装置

摘要

一种用于硅晶片表面研磨的研磨液供应装置，属于半导体材料硅晶片制造领域，包括纯水管、配液罐、循环供应罐、隔膜泵Ⅰ、隔膜泵Ⅱ和带有阀门Ⅱ的循环供应管道，纯水管向配液罐内输送纯水，配液罐通过隔膜泵Ⅰ和输送管道将配制好的研磨液送入循环供应罐内，循环供应罐再通过隔膜泵Ⅱ和循环供应管道将研磨液根据需要送到若干个双面研磨工艺机台，从而实现了多台双面研磨工艺机台公用一套研磨液供应装置，这样解决了因频繁配制研磨液而造成无谓停机、生产效率低下的问题，还解决了生产现场脏乱差的问题，具有结构简单、环保卫生、使用方便、便于清洗、安全可靠等的优点。

主权项

一种用于硅晶片表面研磨的研磨液供应装置，其特征在于：包括纯水管（4）、配液罐（2）、循环供应罐（14）、隔膜泵Ⅰ（22）、隔膜泵Ⅱ（17）和带有阀门Ⅱ（15）的循环供应管道（10），其中，配液罐（2）和循环供应罐（14）内分别设有由搅拌电机Ⅰ（5）驱动的搅拌器Ⅰ（3）和由搅拌电机Ⅱ（11）驱动的搅拌器Ⅱ（13），所述纯水管（4）向配液罐（2）内输送纯水，配液罐（2）通过隔膜泵Ⅰ（22）和输送管道（25）将配制好的研磨液送入循环供应罐（14）内，输送管道（25）上设有阀门Ⅰ（23），所述循环供应管道（10）的两端分别与循环供应罐（14）的顶部和底部连接，其上设有若干用于向双面研磨工艺机台（8）供应研磨液的支管道（9），隔膜泵Ⅱ（17）使循环供应罐（14）内的研磨液通过循环供应管道（10）依次经罐底、隔膜泵Ⅱ（17）、阀门Ⅱ（15）和支管道（9）的接口返回罐内；所述配液罐（2）上部开口，其上方设有与抽风管道（7）连接的收尘罩（6）。