[实用新型]半导体芯片版面结构有效
申请号: | 201520279362.9 | 申请日: | 2015-05-04 |
公开(公告)号: | CN204632763U | 公开(公告)日: | 2015-09-09 |
发明(设计)人: | 王金富;沈晓东;王文源;叶新民 | 申请(专利权)人: | 江阴新顺微电子有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/73 |
代理公司: | 江阴市同盛专利事务所(普通合伙) 32210 | 代理人: | 唐纫兰;沈国安 |
地址: | 214434 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种半导体芯片版面结构,其特征在于它包括GR环掺杂区(1)、基区掺杂区(2)和发射区掺杂区(3),所述GR环掺杂区(1)位于基区掺杂区(2)的外围,且两者紧密相连,所述发射区掺杂区(3)位于基区掺杂区(2)内部,所述GR环掺杂区(1)的结深大于基区掺杂区(2)的结深。本实用新型一种新型半导体芯片版面结构,其“GR环”结深设计的较深,以提高击穿电压BVCBO典型值;同时基区结深设计的比较浅,基区宽度较小,可以得到较理想的高频性能。 | ||
搜索关键词: | 半导体 芯片 版面 结构 | ||
【主权项】:
一种半导体芯片版面结构,其特征在于它包括GR环掺杂区(1)、基区掺杂区(2)和发射区掺杂区(3),所述GR环掺杂区(1)位于基区掺杂区(2)的外围,且两者紧密相连,所述发射区掺杂区(3)位于基区掺杂区(2)内部,所述GR环掺杂区(1)的结深大于基区掺杂区(2)的结深。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江阴新顺微电子有限公司,未经江阴新顺微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201520279362.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:适用于眼镜夹持铅笔的夹持装置
- 下一篇:自由曲面离轴三反光学系统的设计方法
- 同类专利
- 专利分类