[实用新型]一种匀强磁场沉积台有效
| 申请号： | 201520327761.8 | 申请日： | 2015-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN204644458U | 公开（公告）日： | 2015-09-16 |
| 发明（设计）人： | 乔宪武;吴昊 | 申请（专利权）人： | 中国计量学院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310018 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及电磁装置，具体涉及一种匀强磁场沉积台，应用在磁控溅射设备中。所述沉积台与底座中间位置设置平行直导线。本实用新型有益效果：在沉积台表面获得匀强磁场，磁场强度由电流强弱来控制。并且，该装置的工作不受沉积材料的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁场 沉积 | ||
【主权项】：
一种匀强磁场沉积台，包括沉积台(1)、支架(2)和底座(3)，其特征在于：沉积台(1)与底座(3)中间位置设置平行直导线(4)。
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